据了解,中微半导体(上海)的5nm刻蚀装置已经准备好批量生产,预计在今年下半年将交付台积电,为国内芯片生产带来新的突破。
因为大家都知道,现在中国的注意力都集中在了光刻机上,但因为各种原因,中国一直在寻找更先进的光刻机。
刻蚀机是中国芯片行业发展最快的领域,目前为止,14nm技术已经发展到了14nm,光刻机还在研发28nm,刻蚀机7nm,5nm,刻蚀机是中国最大的一次技术革新。
事实上,光刻机和刻蚀机是芯片生产的两个关键环节,在芯片生产的时候,光刻机会绘制芯片的线路,刻蚀机会根据光刻机上的图案,通过物理或者化学的手段,将芯片上的多余部分剔除出去。
根据业内的消息,刻蚀机占据了芯片生产的百分之三十,刻蚀机占据了百分之二十到百分之二十七的市场份额,可以说,除了光刻机之外,刻蚀机是最重要的芯片生产设备,所以中国在刻蚀机上的技术上有了重大的突破。
中国各大芯片产业都在努力发展自己的芯片,目前国内的芯片生产大多是14nm以上的先进技术,业内估计14nm就能满足国内70%的需求。
随着全球晶片市场的低迷,厂商们对成本的控制越来越严格,28nm以上的技术,也越来越成熟,成本也越来越低,可靠性也越来越高,中国三大晶圆厂都是最大的赢家,到了2021年,中国三大晶圆厂的收入增长速度,已经超越了台积电。
台积电在5nm制程等先进制程上,将28nm制程扩展至28nm制程,力图与中国三大晶圆厂商一较高下。不过,对于晶片工业而言,尖端技术终究是未来,因此中国的晶片产业链仍需加速发展。
中国在刻蚀技术上的发展,已经证明了芯片的生产并不是一件不可能完成的事情,刻蚀技术的快速发展,将会推动中国的芯片产业链的发展,中国的半导体行业,将会有更多的机会。
ASML公司的高层们,在中国的晶片产业链上取得了突破性的进展,ASML的高层们早就说过,限制中国出货光刻机,对整个世界的芯片供应链都没有任何好处,中国迟早会突破技术壁垒,而中国在刻蚀机上的突破,也证实了ASML的预言,ASML公司正在加紧向中国出口货光刻机,以期在这一领域占据更大的优势。
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